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河北保定技校排名,保定技校前十名 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界4月24日消息(xī),国家知识产(chǎn)权(quán)局局长申长(zhǎng)雨在新(xīn)闻(wén)发布会上表(biǎo)示,将统筹推进各(gè)类知识产权(quá河北保定技校排名,保定技校前十名n)法(fǎ)律法规和制度规(guī)则的制修订(dìng)工作。其中,修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成(chéng)电路(lù)发展(zhǎn)需要,助力(lì)芯片产(chǎn)业(yè)做(zuò)大(dà)做强,服务数字(zì)经(jīng)济更好(hǎo)发展。

  加强大数据、人(rén)工(gōng)智(zhì)能、基(jī)因技(jì)术等(děng)新领域新(xīn)业态(tài)知识产权(quán)规(guī)则(zé)研究(jiū),助力相关(guān)领(lǐng)域(yù)创新发展。同时,积极参与知识产权(quán)国际规则制定,更(gèng)好对(duì)接高(gāo)标准国际经贸规则,助力(lì)高水平对(duì)外开放。

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